第561章 准备情况(第 3/4 页)

    只要国外能够办到的事情，就没有我们办不到的。

    只是看办不办的问题。

    解决了光学和光学透镜问题之后，euv光刻机的研发速度，那明显的提速。

    “现在全球范围内，只有阿斯麦公司能够制造euv光刻机。2010年的时候，阿斯麦公司研发出第一台euv原型机。直到去年的时候，阿斯麦公司才开始向下游企业正式供货。”

    有了euv光刻机之后，芯片制程迅速的往更加精密的发展，10纳米、7纳米、5纳米乃至3纳米、1纳米。

    为什么在去年的时候，三角星2015年的时候，放梁梦松来华芯国际，很重要的原因，就是因为阿斯麦公司的euv光刻机要正式成型了。

    面对华芯国际的邀请，三角星本身也留不住人了。另外一个在10纳米芯片制程工艺上面的开发上，三角星公司觉得不靠外人，就靠自己也行。

    面对空降人员的时候，无论在那家公司里面，都会受到一定程度上的抵制。

    三角星的芯片制程工艺在14纳米上面，短暂的超越过宝积电，可宝积电很快重新发力，反超了。

    “虽然我们并没有接触到阿斯麦公司的euv光刻机，可是通过一些公开收集到的资料，对我们的研发，还是很有帮助的。”

    最大的帮助，就是让申城微电知道euv这条技术路线是可行的。

    就不用去试了，直接全盘梭哈往这条路线上面堆人堆钱就行了。

    阿斯麦用十几年时间才研发出euv光刻机，申城微电在全力追赶的情况下，只需要几年时间就能够搞定。

    陈伟：“我也不催促你们，我知道你们的实力。在研发这块，你们也从来都没有令人失望过。”

    “申城微电现在能够发展得如此好，你们研发人员功劳是最大的。”

    作为申城微电的首席技术工程师，董安顺之前的时候，就在申城微电工作。

    在星空投资入主之前的申城微电到底是什么样子，董安顺自然很清楚。

    那个时候，公司已经要转向后道光刻机的研发。

    没办法，前道光刻机研发的难度先不说，主要是国内没有支撑前道光刻机发展的条件。

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