第二十章 真空镀膜（上）(第 3/4 页)

    “上面这个肯定是样品台了，为什么下面要加装一块金属挡板呢？”许秋问道。

    “这块金属挡板叫做样品挡板，当他处于开启状态时，可以有效阻挡气体分子沉积在样品表面。因此，我们可以利用它，控制蒸镀的开始和结束时间，得到精确的厚度。”陈婉清道。

    将舱内情况了解完毕后，许秋开始做蒸镀前的准备工作。

    两批基片的器件结构不同，需要分两次进行蒸镀。

    第一批是正常结构，也就是蒸镀钙和铝。

    许秋首先在钨篓中装满99.995%纯度的铝锭，然后让学姐帮忙打开钙束源炉的挡板。

    挡板的开关是数控的，需要在手套箱外的总控台操作。

    打开挡板后，他取出束源炉内部的陶瓷坩埚，将上次使用后剩余的残渣倒出，再加入两勺新的99.995%纯度的钙粉末。

    陶瓷坩埚是特质的，可以至少承受1000摄氏度以上的高温，且十分稳定，不会与靶材反应，产生杂质。

    完成后，他让学姐关闭束源炉挡板。

    最后，他将一片片基片正面朝下放置在样品支架上，再将样品支架放回样品台。

    “学姐，没有问题吧，可以关舱门了吗。”许秋看向陈婉清。

    “嗯嗯。”陈婉清点点头。

    许秋将舱门从右往左推回原位，然后旋转舱门上下的两个旋钮，直至无法转动为止。

    ……

    许秋离开手套箱，和学姐一同来到总控台，因为剩下的操作主要在总控台完成。

    总控台接近两米高，由十几个模块拼接而成，一共有30多个控制按钮。

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