第226章 如果有这一半的速度，再加上这质量…(第 3/4 页)

    但是，由于喷射等离子体的速度场合温度场不均匀，使其沉积范围内膜厚不均，会呈梯形分布。

    在沉积速度过快时，膜的表面不平整，就会大大降低膜的致密度。

    看到这，陈舟古怪的笑了笑：“看来，太快了也不好……”

    但是整体来说，这种方法还是很有研究潜力的。

    陈舟在草稿纸上做着记录，并把自己的想法记在一旁。

    把dapcvd法的相关文献看完后，陈舟右手滑动鼠标，点开了一个新的pdf文件。

    最后一个制备方法。

    微波等离子体cvd法，也就是mpcvd法。

    是四十三所所采用的的方法。

    也是陈舟查这么文献的目的。

    和dapcvd法被报道的时间，仅相隔一年。

    这也是目前用于沉积金刚石薄膜最为广泛的方法。

    这种方法最先是通过一种轴向的天线耦合器，将2~5w的矩形微波进行导转换，在大气压下形成等离子体。

    而高压等离子体就会由耦合器的“针孔”处喷射到水冷的样品台上，继而形成金刚石薄膜。

    和dapcvd法使用的气源相同，主要是氩气，反应气体是甲烷和氢气。

    现如今，这种方法已经形成了多种形式。

    不过不管是按真空室的形成来分的石英管式、石英钟罩式和带有微波窗的金属腔体式，还是按微波与等离子体的耦合方式来分的表面波耦合式、直接耦合式和天线耦合式。

    它们的沉积速率，都是和微波功率有关的。

    举个例子，用5kw微波功率的mpcvd法，可以以10μm/h的速率沉积工具级金刚石薄膜，以8μm/h的速率沉积热沉级金刚石薄膜，以3μm/h 的速率沉积光学级金刚石薄膜。

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