第三百五十一章 投影式光刻技术(第 2/3 页)

    为了避免说话飞沫污染洁净室，张本松打手势询问他们怎么这么早就来了，现在天亮了吗？

    外面的工程师写字条高速张本松现在才只凌晨四点，他们是因为睡不着才想着过来车间再做一遍测试，好为白天收集更多的数据。

    张本松想喊他们回去休息，可伸出洁净室，手上还拿着硅片，他没办法，只好指了指自己粘在玻璃上的纸条，反正这些人来都来了，就让他们进来帮帮忙吧。

    张本松走到门口告诉他们自己认为提高投影式光刻的精度跟控制光照时间和光刻次数有关。

    “虽说光刻就像照相一样瞬间就能完成，但并不意味着光刻就整体完成，他可能存在光刻不到位的问题，可如果我们提高光照时间和次数，可能又会带来新的衍射以及过度曝光等问题，我们现在就是要????????????????找到最适合的工艺因子。”

    用嘴简单的话语讲解了自己的想法，然后张本松才放其他工程师进来，他们把烘焙好的硅片固定在光刻机上，然后启动光刻，按照张本松的想法进行反复曝光。

    这一次他们失败了，硅片在经过刻蚀以后张本松发现在进行了过度曝光后，光刻胶受到很大影响，导致不该被光刻的地方也受到了衍射曝光。

    早上方焕志亲自为他们送来早餐，见张本松他们居然一晚上没睡，方焕志严厉批评了张本松。

    “你应该知道厂里的制度，我也再三强调你必须休息，你这么经常性熬夜，如果你倒下了，咱南园电子厂的技术攻关还能由谁来主持？你这不仅是对自己的不负责任，更是对厂子发展的不负责任！”

    张本松表示虚心接受方焕志的批评，但在早餐结束后，他马上又主持了技术会议。

    在会议上，张本松表示尽管这次测试失败了，但他们也并非是完全没有收获，根据最后对硅片的分析表明他们的方向是对的。

    “反复曝光的确能有效增加光刻的精准度，接下来我们的任务就是慢慢测试次数和曝光强度以及曝光时长等等，我们要进入更加枯燥反复的测试了。”

    等会议结束，方焕志马上拦住所有人，揪出昨晚上没睡觉的张本松一行人，要求他们马上回宿舍休息。

    张本松可不干，他表示自己都已经摸到门槛，马上就能搞定投影式光刻了，这时候他可不能下火线。

    方焕志却表示他都知道了，接下来都是反复的测试工作：“这些工作任何工人都能完成，难道你张本松还不信任自己带出来的兵吗？到时候你休息好了查看他们的数据就是了。”

    最终在方焕志的要求下，张本松和其他几个熬夜了的工程师们都被强制送回宿舍休息了，哪怕其他几个工程师反复解释他们并没有熬夜，只是凌晨四点钟来的也没用，方焕志本着宁杀错不放过的原则不予理会。

    郑南事后得知也支持方焕志的做法：“人才才是芯片工作的重中之重，我们现在是需要掌握投影式光刻的技术要点，但并不意味着我们就要竭泽而渔孤注一掷，我们未来还有渐进式和步进式光刻机，我们还需要这些技术出众的工程师们。”

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