第343章 有分量！(第 1/3 页)

    澜语墨那边继续的薅羊毛，纳斯达克提款机还在源源不断的为未来投资提供资金。

    而张京呆在燕京的这两天也接到了一个消息，林本健愿意做新公司的项目顾问。

    林晓听到这个消息，无疑是大喜。

    在后世的芯片制造行业，林本健绝对是个赫赫有名的人物。

    上世纪的最后二十年，岛国一直是半导体行业的绝对霸主，他们掌握了半导体行业众多关键技术与产品，其中一个很重要的就是光刻机。

    尼康和佳能的光刻机占据了市场上很大的份额，即便光刻机大国米国也被他们拉下马。

    尤其是尼康，是当之无愧的行业巨头。

    因为光刻机的本质与投景仪+照相机差不多，以光为刀，将设计好的电路图投射到硅片上。

    在那个芯片制程还停留在微米的时代，能做光刻机的企业，有数十家，而尼康凭借着相机时代的积累，在岛国半导体产业全面崛起的年代，成长为了光刻机行业的巨头。

    毫不夸张的说，当时的英特尔、ibm、amd、德州仪器等半导体大厂，每天排队堵在尼康门口等待最新产品下线的热情，与后世大家眼巴巴等着阿斯麦euv光刻机交货的迫切程度相差无几。

    而到了后面，之所以行业的巨头成为了阿斯麦，始于21世纪初的157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法的技术之争。

    进入90年代，光刻机的光源波长被限制死在193nm，成为了摆在全产业面前的一道难关。

    光刻机的光源就相当于刻刀，要雕刻的更精细，刀尖就得锋利，而当刀尖技术卡住了，也意味着芯片制造技术面临瓶颈。

    以尼康为代表的公司主张采用157nm的f2激光，继续研究光源技术。

    米国的一些公司则是押注更激进的极紫外技术，也就是后世赫赫有名的euv光刻，试图直接用十几纳米的极紫外光来做光源。

    但是两者的需要克服的障碍都很多，进程非常慢。

    前一世的2002年，鬼才林本健横空出世，他在一次交流会上，首次提出“沉浸式光刻”方案。

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