一二五 离去(第 2/3 页)

    这样的差距，已经可以让许多的业内人士，生不起追赶的底气来。

    威华继上次的二十万片芯片后，再次订购了五百万片的芯片产品，此时整个生产车间，正在全力赶工着。

    为了应付威华的订单，杨青也需要从外界订购几台光刻机，自然不可能是euv，这样采用极紫外激光光源的顶级光刻机，不过倭国的尼康产的193纳米深紫外光刻机duv，也是一个不错的选择。

    采购光刻机，杨青很自然地就选择了威华的渠道。

    哪怕杨青在国内已经小有名气了，不过他的身份还是不能和尼康对等，他也没有直接联系的渠道，一个订单，就能拖延上几个月时间才能定下，更别说交付了。

    国内的28纳米光刻机虽然已经下线，但是他的产能明显不足，至少轮不到杨青采购。

    尼康也曾是世界光刻行业的龙头，不过在世纪初的时候，他一系列操作失误，终于倒在了平平无奇的新对手，阿斯麦带来的浸润式光刻等一系列的新技术上。

    技术上一步落后，就是步步落后，随着光刻机的用户减少，尼康对于未来的研发投入也在减少。

    更别说阿斯麦不断拉拢各大芯片设计代工企业，并利用米国打压倭国半导体产业的机会，几乎聚拢了全世界的与光刻机息息相关的产业。

    在这些企业的帮助下，他终于突破了193纳米的限制，率先实现了极紫外光源，也就是13.5纳米波长的紫外光，从而一举奠定了自己的领先基础。

    而尼康的f2光源失败，从此以后，尼康就只能徘徊在中低端市场，不过认真来说，尼康光刻机的质量还是不错的。

    只是作为米国制裁的对象，威华就算购买duv，都是困难重重，不过有着国内的支持，威华换了一个马甲，还是成功订购了五台光刻机。

    主要是国内目前并不缺乏duv，中芯还有紫光等很多的厂家，都有着duv的存在。

    只不过使用duv，实现7纳米的工艺制程，需要多次曝光，与一次曝光的euv相比，不管是成本，还是加工效率，都是远远不能比的，生产出来的芯片产品，根本就没有多少的竞争力。

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