第309章:光刻机的发展历程(第 1/3 页)

    华国最开始研究光刻机，是在七十年代就已经开始了，最初是让南金大学的1445研究所进行研究。

    七十年代的时候，华国就已经意识到了光刻机的重要性，并且快速开始研究光刻机，1982年科学院109厂的kha-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年。

    1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到米国4800dsw的水平，这应当是华国第一台分步投影式光刻机，采用的是436纳米g线光源。按照这个时间节点算，华国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。

    从历史上回顾，华国的半导体产业发展其实非常不错，五十年代就已经把头给开好了，接下来，只需要按部就班，慢慢发展，未来半导体和电子产业华国肯定也是龙头之一。

    那个时候的华国，半导体产业仅次于米国。

    老一辈的科研人员奉献了自己的青春，造就了华国的半导体产业。那时候华国的半导体产业虽然没有超越当时世界最先水平，但是差距并不大。更重要的是，打造了从单晶制备、设备制造、集成电路制造的全产业链，基本不依赖国外进口，也就是说，华国以一国的供应链去追赶整个西方发达国家联盟的供应链。要知道，当时英特尔也是用的霓虹的光刻机。

    然而，为什么华国的光刻机技术没有发展起来？

    现在，华国使用的光刻机是193nm的氟化氩激光光刻技术，而这个时候远在大洋彼岸的荷兰，已经开发出了euv光刻技术，采用的是13nm的极紫外光技术。

    这种技术，华国最起码和对方差了二十年。

    这二十年，我们在干嘛？

    不是国家不发展，而是没办法。

    仔细看看华国的发展，从一开始的百废待兴，到现在为止，几乎让百分之九十的人吃得饱穿得暖，靠的就是国家大力发展经济的原因。

    那个时候，我们国家弱小到任何人都敢来欺负，好钢用在刀刃上，华国没办法，只能把所有的经济用来研发武器，因为两弹一星，让我们国家再也不敢随意的被人骑在脑袋上。

    可一眼望去，全国人民举目皆穷。

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