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    第二百四十三章 超紫外激光!波长1.5nm!功率2000w!(1)(第 3/3 页)

    这一点极其重要,毕竟是制造高精密芯片,哪怕最微小的震动,一粒尘埃,或者空气温度和湿度的差别,都有可能导致硅片曝光失败,或者前后两批芯片的性能不一致。

    一台完整的光刻机,大体就是这样了。

    听上去简单,其实却是人类历史上最复杂最精密的机台,没有之一。

    放眼全球,能做到紫外的,只有asml,佳能,尼康三家,而能做到极紫外的,则只有荷兰asml,其余所有竞争对手,全部惨遭淘汰,消失在历史的长河中。

    “开始!”

    长春光机所的所长叫杜维明,随着他一声令下,全封闭绝尘实验室里,光刻机开始运行,大概也就十几秒钟过后,一片十二寸硅晶圆就被送下了机台。

    其实,光刻机工作速度是很快的,每小时出片两百张以上,完全不存在任何问题。

    制约产能的主要是沉积设备,pvd和cvd这类,其次是刻蚀设备包括p,die这几种机台,另外热处理设备工作效率也十分感人。

    一条月产能一万片十二寸晶圆的fab制造线,光刻机或许只有四五台,但刻蚀机,却起码要有六十台起步,如果想要追求高效率,甚至要堆一百台以上的刻蚀机。

    目前,中微半导体的介质刻蚀技术,硅通孔刻蚀技术,位列全球前三,全球最牛的半导体代工厂台积电,生产线上就有成百上千台来自中微的刻蚀机,算是国产半导体行业里比较争气的存在。

    “成了!”

    “一次出片成功,比我预想的还要顺利!”

    “不愧是昆仑集团啊,临时加进来的光学系统,竟然和旧机台配合的这么好!”

    实验室里,穿着全套无尘服的工程师,取下十二寸硅晶圆,仔细看,会发现上面出现了密密麻麻,无比繁杂的线条,灯光下亮晶晶的,甚是喜人。
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