第十六章 旋涂(第 4/4 页)

    他将培养皿从仪器中取出，用镊子夹取一片基片，将基片放在匀胶机的平台上。

    平台下面有一小孔，连接着真空泵，用来确保在高速旋转过程中，基片不会移动。

    他设定好匀胶机的参数，转速是3000转每分钟，旋转时间设为60秒。

    然后用针筒挤出约0.1毫升的pedot溶液到基片中央，再用过滤头的末端拖动液面，使溶液覆盖满整个基片。

    接着按下启动键，匀胶机自动开启真空泵，并按照预设的参数运行，待平台完全停止转动后，自动关闭真空泵。

    又是一个类似于超声波清洗仪的傻瓜式机器。

    许秋用镊子夹起旋涂好的基片，仔细检查，发现旋涂的非常完美，蓝紫色的薄膜覆盖了整个基片，而且薄膜表面光滑，没有孔洞。

    将基片放回原培养皿，继续夹起下一片。

    重复旋涂12次后，11片完美，仅有一片略有瑕疵，只涂上了四分之三的面积。

    许秋将有瑕疵的那片丢入旧基片盒子中。

    接下来，是热退火步骤。

    对于pedot:pss薄膜来说，退火的主要作用是除掉其中残留的水分，所以只需要温度比水的沸点稍高即可。

    许秋将旋涂好的基片连带着培养皿，置于设定温度为130摄氏度的加热台上，然后按下秒表进行计时。

    一般需要30分钟以上。

    等待时间较长，许秋回到办公桌，打算喝口水，休息一会儿。

    突然，旁边的学姐冷不丁的问了一句：“许秋，你对未来有什么打算呀？”

    许秋差点把喝到嘴里的水喷出来。