第八十九章 光刻机(第 2/4 页)

    孟谦再次摇了摇头。

    何文康看了一眼激光器道，“一万度电起步。”

    孟谦稍惊了一下，他后世确实没了解的这么细，这一世又一直在了解更上游的东西，“是因为能量转换率的问题吧？”

    “是的。”何文康冲着孟谦点了点头，“光刻机的能量转换率平均值还不到千分之一。

    所以如何保证一个长时间内持续稳定的高功率输出，这是光源输入的第一个稳，第二个稳在于，如何提升能量稳定以提升良品率，要知道，最终的能量一旦出现一点极小的误差，都会影响到良品率，最后一个稳，也是最基本的稳，如何通过设备稳定来降低用电量。

    一个表现优异的激光器和能量转换器，它会影响企业的电力成本以及产品的良品率。”

    “一个拥有三四台光刻机的晶圆厂，每年光电费就要上千万...”孟谦下意识的接了一句。

    “目前市面上设备的优劣可以带来的用电差距，高达两倍。”何文康往右边走了几步，“从能量控制器出来的能量会进入光束形状设置装置，不同的光束会带来不同的光学效果。

    再过去就是能量探测器了，刚才我也说了，能量的误差会直接影响到良品率，所以这里算是对能量的二次确认，能量探测器下面那个东西叫掩模版，这东西本质上就是一个刻着芯片线路的玻璃，类似于相机的底片。

    但就这么一块破玻璃，孟总猜猜看多少钱？”

    孟谦想了想道，“何总直接说答案吧。”

    何文康淡淡一笑，“一块破玻璃，一百万。”

    说完，何文康示意孟谦向右走两步，“掩模版下面这一块就是最重要的东西了，物镜，孟总可以数一数，这里总共有20多块镜片，通过这20多块镜片，将掩膜版上的电路图按比例缩小，再被激光映射到硅片上，同时物镜还要补偿各种光学误差。

    这个东西，孟总也很清楚，咱们搞不定。

    下面这两个平台是测量台和曝光台，正常流程，先测量，再曝光，整个测量台的精度是纳米级的，差1纳米都不行，我们用的自动调焦系统，是米国人设计的。

    好了，这就是一台从表面上能看到的光刻机，但技术却不仅只是这些，就比如看到这里的传输带了么，这是传输系统，同样是纳米级的，而且加速系统是航空水平，整个光刻机还需要减震系统，环境控制系统，整机控制系统，自动化操作系统等等。

    这就是光刻机，一个把它模块化之后，每一个模块的难度都是一个缩小版光刻机的东西。”

    何文康突然有点自言自语的感觉，也不知道这话到底是说给孟谦听的还是说给自己听的。

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