第四百六十二章 EUV(第 1/2 页)

    9月初，孟谦又去了一趟霓虹国，跟索尼签署了一份秘密文件，达成了战术同盟协议，两家公司将携手一起先干三星，当大家出现利益冲突的时候，一切以先干三星为主，之后索尼跟大风集团再竞争。

    虽然此时的三星其实已经很难倒塌了，毕竟有高丽国撑着，但能利用各种方法压一压三星的发展也是好的，因为孟谦最在意的并不是三星有多强大，而是未来自己跟米国全面对抗的时候，三星这个家伙很可能会像当初捅霓虹国一样来捅华夏。

    这一世，至少，绝对不能让三星在华夏影响太深。

    这次来霓虹国，除了跟索尼谈战术合作的事情，孟谦还有一件很重要的事情要做，这个事情跟光刻机有关。

    米国这边由英特尔牵头开始搞大规模euv光刻机研究已经有一段时间，时不时的冒出一些消息来让人觉得下一代光刻机是米国的

    不过在下一代光刻机的发展上孟谦确实也要多上点心了，最近沪上微电子那边给孟谦传来了很多坏消息，好多技术都搞不定。

    所以，孟谦需要加快一些事情的发展。

    这里就不得不稍微提一点关于euv的历史，孟谦以前看过一篇文章说：euv光刻技术在1999年被国际半导体技术发展路线图确定为下一代光刻首选技术，这就意味着，谁如果不参与到euv光刻技术研发，谁就将在下一代芯片竞赛中自动弃权。

    为了确定这个事情，孟谦好不容易找到了1999年的国际半导体技术发展路线图原文，压根没有这句话，连类似的话也没有

    相反，按照当时的记载，1999年那会儿关于下一代光刻技术的猜想有四个，分别是157nm　f2激光，电子束投射(epl)，离子投射(ipl)以及euv和x光，因为euv属于软x光，所以和x光的研究算在一个领域。

    当时研究全球研究euv的企业和机构确实超过200家，但研究157nm　f2激光的企业和机构超过300家

    而且绝大部分企业和机构都是多个方向一起研发，尤其是ibm，四个方向一起研发。

    当时搞157nm　f2激光搞得最好的就是svg跟尼康，而当时搞euv搞的最好，也是投入最大的企业，正是英特尔，这也是为什么最近英特尔跳出来高喊要靠euv打造下一代光刻机。

    在这个年代，英特尔率领的联盟就是euv第一梯队，而第二梯队是哪呢，从投入来说，第二梯队看似是欧洲，但从成果来说，第二梯队肯定是霓虹国，因为霓虹国很早就开始研究euv了，只是中间略有断层，断层的几年霓虹国重点研发在x光上，但基础还在，后面捡起来后发展的也很快，而在霓虹对euv研究最深的，也是尼康。

    所以尼康在后世自嘲道，自己在20年前就掌握了euv关键技术，可惜的是，那个时候的基础还不足以撑起euv光刻机的发展。

    这话其实说的也没错，人家asml在没有竞争对手的情况下搞euv光刻机搞了十年，尼康在这个年代搞euv光刻机能搞起来才见鬼了。

    这就是孟谦为什么一定要尼康死的原因，孟谦要尼康这家公司！

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