第434章 超精密光学工程中心(第 3/4 页)

    “廖主任，林副主任，我和胡总这次来贵单位，是来求援的。高端光刻机的研发，任重而道远，但首先还是得解决光源的问题。在这一领域，咱们车城光机所无疑是国内的行业翘楚，我希望能得到你们的支持。”

    张潇知道人家平时都很忙，今天能见个面也都是看在林千祥的面子上，因此他有话直说。

    胡杨静静地坐着没有吱声，他这次就是应邀前来配合张潇的，暂时还不需要他上场。

    “张总，目前我中心有多项国家重点研究项目在研，暂时还分不出太多的精力。不过，集成电路重大装备攻关，也符合国家的政策导向，我们尽量想想办法，争取在短时间内成立光刻设备光源的项目组。”

    廖主任也有难处，还真不是打官腔。

    现在有些研究机构根本拿不到项目，也没有研究课题，自然也就没有太多的经费。而光机所不一样，所里的重大科研项目都忙不过来，真没有动力再接其他单位委托的合作事项。

    这也就是林千祥介绍来的，要不然廖主任根本不会说这么多废话。

    张潇笑笑，表示了感谢，但眼中掩藏不住的失望，就连胡杨都看出来了。

    林千祥也不好说什么，只能在一旁给张潇打打气，让他耐心的等待一段时间。

    “廖主任，高端光刻设备对于国内集成电路产业有多重要，你肯定比我清楚。我们已经向上面递交了报告，希望从国家层面得到支持。

    我合计呢，一旦国家考虑大力扶持微电子设备公司，到最后光源这一块儿还是会着落到贵单位的头上，真不如我们一起早点动手，还能节省研发的时间。”

    胡杨这时笑眯眯的开口说道，他这番话算不上逼迫对方，只是在陈述一个事实。

    听到胡杨的话，张潇暗地里叫好，林千祥若有所思。

    廖主任想了想，过了好一会才说道：“胡总，你的提议也很有道理。我对于目前国际上的光刻设备还是有一些了解的，当下大多数能研制光刻设备的公司，都已经放弃了157nm光源，转而采用193（nm）arf光源。

    针对193（nm）arf光源，其实我们已经有了比较深入的研究，想要出成果并不难。但是，我听说asml公司已经联合多家芯片制造巨头，开始研发35（nm）euv光源技术。对于这项技术，我们的积累几乎为零。”

    “廖主任，我们现在就是需要193（nm）arf光源，如果你们能帮助我们解决这个问题，国产高端光刻机就有可能在尽早诞生。”

    张潇一听廖主任这么说，知道这是对方找了个台阶，他赶紧顺着台阶下来，给在座的几人打个圆场。

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