第4章 双工作台研究完成(第 3/4 页)

    双工作台控制了芯片生产中的纹路刻蚀阶段。

    而在芯片制造的过程中，并不是经过一次曝光就可以完成的。

    是要经过多次曝光处理的。

    这也就意味着，在芯片制作过程中要进行多次对准操作(每次曝光都要更换不同的掩膜，掩膜与硅晶圆之间每次都要对准操作）。

    可芯片的每个元件之间都只有几纳米的间隔。

    所以在这种情况下，掩膜与硅晶圆之间的对准误差都必须控制在几纳米范围内。

    一次对准可能相对来说比较容易，但芯片的制造需要多次曝光多次对准。

    在曝光完一个区域之后，放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动，接着曝光下一个需要曝光的区域，想要在多次快速移动中实现纳米级别的对准，这个难度相当大。

    可这些问题在王为的超级院士能力（定向）的光辉下，都不再是问题。

    “非常完美，精度控制在10埃米（也就是一纳米）以下！”

    恍若肩上的重担卸下来是的，王为长长的舒了一口气。

    只要再将这个通过专利审核，就可以拿到五天的寿命奖励了。

    就在这时，系统的提示音也如期而至。

    “叮！短期科研方向：双工作台。”

    “完成度：100％！”

    “中期科研方向：1nm光刻机。”

    “完成度：33.3％！”

    “现发布新的短期科研方向：高抛光度物镜镜头！”

    “专利审核通过奖励寿命：1天！”

    “研究成果获得应用奖励寿命：2天！”

    ……

    接着又是一阵良久的沉默。

    然而不在沉默中爆发，就在沉默中消亡！

    “好家伙，系统可真有你的啊！”

    “奖励没到，先把下一个任务给我送过来了…”

    “那些万恶的资本家到你这来的话，说不定都得免费给你做苦力！”

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